MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA
Cintas adhesivas de carbón, cobre, aluminio, etc.
Pinturas y cementos
conductores de plata, carbón. oro, diferentes disolventes
Filamentos de W y LaB6 para todas las marcas de MEB
Portamuestras estándar
y especiales para todas las marcas de MEB
Reactivos para preparación
de muestras
Medios de montaje resinas, parafinas, catalizadores
Rejillas para TEM
Guía de selección
de rejillas para TEM
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Consumibles en general
Estándares de calibración
Pinzas ultrafinas, de varios tipos de acero y herramientas para manejo de muestras
Medios de almacenaje
Equipos de preparación de muestras y sus consumibles
High resolution sputter coater
Equipo recubridor de metal y carbón de alta resolución con bomba turbomolecular
Sputter automático
Equipo recubridor de metal o carbón con sistema de vacío rotatorio
Desecador de punto crítico
Equipo desecador de punto crítico térmico semi automático
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Sustituto del acetato de uranilo
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Libre de uranio, no radioactivo
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Precio accesible
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Calidad de tinción igual al acetato de uranilo
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No requiere de procesamiento extra alguno
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Mezcla de tierras raras patentada
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Presentación de 25 ml
ZERO
UA-ZERO
RESINA LONDON
Resina acrílica hidrofílica de baja viscocidad (8cps) disponible en tres grados de dureza.
Apropiada para su uso en microscopía de luz y microscopía electrónica. En presentación pre catalizada y sin catalizar.
Ahora fabricada por Agar Scientific en Reino Unido
LONDON
NL50
Sistema de deposición de nanopartículas
El sistema NL50 está diseñado para su uso en cualquier laboratorio dedicado al estudio de aplicaciones en nanopartículas. El proceso dedeposición al vacío produce nano partículas de ultra alta pureza libres de cualquier contaminación. El material particulado es depositado directamente en el substrato y después de un tiempo promedio de ciclo de 30 minutos, el material está listo para ser analizado sin procesos posteriores de secado o purificación.
Los materiales a particular pueden ser
Au, Ag, Cu, Pt, Ir, Ni, Ti o Zr.
También es posible particular materiales compuestos como nitruros u óxidos.
La taza de deposición de los materiales es en promedio 10-50ng/cm2s