MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA

Microscope-icon_edited.png
Miroscopía de Fuerza Atómica
AFM INV SF.png
cinta adhesiva de carbon
cinta de carbon
pintura conductiva de plata
cemento conductivo
filamentos par SEM TEM
filamento de LaB6

Cintas adhesivas

Pinturas y cementos  

conductores

Filamentos de W y LaB6

portamuestras
PIN stubs
portamuestras
resina de montaje
London Resin

Portamuestras estándar 

y especiales

Reactivos 

Medios de montaje

rejilla TEM
rejilla TEM
logo%252520agar%252520sin%252520fondo_ed

Rejillas para TEM

Guía de selección

de rejillas para TEM

PDF%20logo_edited.jpg
dia_ultra-afm-35-5-w_1200px
T580_carbon-rod-grinder
Blanco de oro en pastilla
Contenedores para CPD
Blanco de platino anular
Fibra de carbón para recubridor
Blanco de oro anular
kit de consumibles microscopía electrónica

Consumibles en general

estandar calibracion
estándar de calibración

Estándares de calibración

Pinzas y herramientas

Medios de almacenaje

Equipos de preparación de muestras y sus consumibles

High resolution sputter coater

Equipo recubridor de metal y carbón de alta resolución con bomba turbomolecular

Sputter automático

Equipo recubridor de metal o carbón  con sistema de vacío rotatorio

Desecador de punto crítico

Equipo desecador de punto crítico térmico semi automático

vc070618_mrx-cell-pellet_2b_1200px.jpg

UA-ZERO

  • Sustituto del acetato de uranilo

  • Libre de uranio, no radioactivo

  • Precio accesible

  • Calidad de tinción igual al acetato de uranilo

  • No requiere de procesamiento extra alguno

  • Mezcla de tierras raras patentada

  • Presentación de 25 ml

ua-zero-bottle_mg_1708_1200px_edited.png
lr-white_mg_1789_1200px.jpg

RESINA LONDON

Resina acrílica hidrofílica de baja viscocidad (8cps) disponible en tres grados de dureza.

Apropiada para su uso en microscopía de luz y microscopía electrónica. En presentación pre catalizada y sin catalizar. 

Ahora fabricada por Agar Scientific en Reino Unido

set5-aunp_200000_edited.jpg
nl50-pr1-in-lab-1200px_edited.jpg

NL50 

Sistema de deposición de nanopartículas

El sistema NL50  está diseñado para su uso en cualquier laboratorio dedicado al estudio de aplicaciones en nanopartículas. El proceso dedeposición al vacío produce nano partículas de ultra alta pureza libres de cualquier contaminación. El material particulado es depositado directamente en el substrato y después de un tiempo promedio de ciclo de 30 minutos, el material está listo para ser analizado sin procesos posteriores de secado o purificación. 

Los materiales a particular pueden ser 

Au, Ag, Cu, Pt, Ir, Ni, Ti o Zr.

También es posible particular materiales compuestos como nitruros u óxidos. 

La taza de deposición de los materiales es en promedio 10-50ng/cm2s