
MICROSCOPÍA ELECTRÓNICA








Cintas adhesivas de carbón, cobre, aluminio, etc.
Pinturas y cementos
conductores de plata, carbón. oro, diferentes disolventes
Filamentos de W y LaB6 para todas las marcas de MEB




Portamuestras estándar
y especiales para todas las marcas de MEB

Reactivos para preparación
de muestras

Medios de montaje resinas, parafinas, catalizadores




Rejillas para TEM
Guía de selección
de rejillas para TEM
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Consumibles en general



Estándares de calibración




Pinzas ultrafinas, de varios tipos de acero y herramientas para manejo de muestras




Medios de almacenaje
Equipos de preparación de muestras y sus consumibles

High resolution sputter coater
Equipo recubridor de metal y carbón de alta resolución con bomba turbomolecular

Sputter automático
Equipo recubridor de metal o carbón con sistema de vacío rotatorio

Desecador de punto crítico
Equipo desecador de punto crítico térmico semi automático


NL50
Sistema de deposición de nanopartículas
El sistema NL50 está diseñado para su uso en cualquier laboratorio dedicado al estudio de aplicaciones en nanopartículas. El proceso dedeposición al vacío produce nano partículas de ultra alta pureza libres de cualquier contaminación. El material particulado es depositado directamente en el substrato y después de un tiempo promedio de ciclo de 30 minutos, el material está listo para ser analizado sin procesos posteriores de secado o purificación.
Los materiales a particular pueden ser
Au, Ag, Cu, Pt, Ir, Ni, Ti o Zr.
También es posible particular materiales compuestos como nitruros u óxidos.
La taza de deposición de los materiales es en promedio 10-50ng/cm2s